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什麽是濺射靶材?

2018-07-03

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,較之較早點的蒸發鍍膜方式,其很多方麵的優勢相當明顯。作為一項已經發展的較為成熟的技術,磁控濺射已經被應用於許多領域。   

磁控濺射原理:

在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),永久磁鐵在靶材料表麵形成250~350高 斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負高壓,從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離 幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶麵,以很高的速度轟擊靶麵,使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以 較高的動能脫離靶麵飛向基片澱積成膜。 磁控濺射一般分為二種:支流濺射和射頻濺射,其中支流濺射設備原理簡單,在濺射金屬時,其速率也快。而射頻濺射的使用範圍更為廣泛,除可濺射導電材料外, 也可濺射非導電的材料AG平台游戏,同時還司進行反應濺射製備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高後就成為微波等離子體濺射,目前常用的有電子回旋 共振(ECR)型微波等離子體濺射。   

磁控濺射鍍膜靶材:

金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材 ,氮化物陶瓷濺射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材 ,矽化物陶瓷濺射靶材 ,硫化物陶瓷濺射靶材 ,碲化物陶瓷濺射靶材 ,其他陶瓷靶材,摻鉻一氧化矽陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化銦靶材(InP),砷化鉛靶材(PbAs),砷化銦靶材(InAs)。   

高純高密度建設靶材有:   

濺射靶材(純度:99.9%-99.999%)   

1. 金屬靶材:   

鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、铌靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁 靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁矽靶、AlSi、矽靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、 La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不鏽鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。   

2. 陶瓷靶材:   

ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化矽靶、碳化矽靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化矽靶、一氧化矽靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二 铌靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二铌靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅 靶、氮化鋁靶,氮化矽靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化矽靶,铌酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。


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